中国光刻机行业发展分析及未来趋势预测报告告2023～2029年
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中国光刻机行业发展分析及未来趋势预测报告告2023～2029年
★★★★★★★★★★★★★★★★★★★★★★★【报告编号】: 439446
【出版时间】: 2023年5月
【出版机构】: 华研中商研究院
【交付方式】: EMIL电子版或特快专递
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**章 光刻机行业相关概述1.1 光刻机的基本介绍1.1.1 概念界定1.1.2 构成结构1.1.3 工作原理1.1.4 工艺步骤1.1.5 工艺特点1.2 光刻机的性能指标1.2.1 分辨率1.2.2 物镜镜头1.2.3 光源波长1.2.4 方式1.2.5 套刻精度1.2.6 工艺节点1.3 光刻机的演变及分类1.3.1 摩尔定律1.3.2 光刻机的演变1.3.3 光刻机的分类*二章 2020年到2023年国际光刻机行业发展分析2.1 光刻机行业产业链分析2.1.1 光刻机产业链基本构成2.1.2 光刻机产业链上游分析2.1.3 光刻机产业链中游分析2.1.4 光刻机产业链下游分析2.2 **光刻机行业发展综述2.2.1 经济发展环境2.2.2 产业发展历程2.2.3 研发难度水平2.2.4 市场发展规模2.2.5 市场竞争格局2.2.6 价格水平状况2.3 **光刻机细分市场分析2.3.1 细分产品结构2.3.2 i年到line光刻机2.3.3 KrF光刻机2.3.4 ArF光刻机2.3.5 ArFi光刻机2.3.6 EUV光刻机2.4 **光刻机重点企业运营情况：ASML2.4.1 企业发展概况2.4.2 企业发展历程2.4.3 产业的生态链2.4.4 创新股权结构2.4.5 经营状况分析2.4.6 产品结构分析2.4.7 光刻业务状况2.4.8 技术研发进展2.4.9 企业战略分析2.5 **光刻机重点企业运营情况：Canon2.5.1 企业发展概况2.5.2 经营状况分析2.5.3 企业业务分析2.5.4 光刻业务状况2.5.5 现有光刻产品2.5.6 技术研发现状2.6 **光刻机重点企业运营情况：Nikon2.6.1 企业发展概况2.6.2 经营状况分析2.6.3 企业业务结构2.6.4 光刻业务状况2.6.5 企业光刻产品2.6.6 光刻技术研发2.6.7 光刻业务新布局*三章 2020年到2023年中国光刻机行业政策环境分析3.1 中国半导体产业政策分析3.1.1 行业主管部门与监管体制3.1.2 重要政策梳理3.1.3 促进政策分析3.1.4 地方政策总结3.2 中国半导体行业政策主要变化3.2.1 规划目标的变化3.2.2 发展侧重点变化3.2.3 财税政策的变化3.2.4 扶持主体标准变化3.3 中国光刻机行业相关支持政策3.3.1 产业重要政策3.3.2 补贴战略项目3.3.3 扶持配套材料3.3.4 政策发展建议*四章 2020年到2023年中国光刻机行业发展环境分析4.1 中美科技战影响分析4.1.1 《瓦森纳协定》解读4.1.2 美方对华发动科技战原因4.1.3 美对中科技主要措施4.1.4 中美科技领域摩擦的影响4.2 经济环境分析4.2.1 宏观经济概况4.2.2 对外经济分析4.2.3 工业运行情况4.2.4 宏观经济预测4.3 投环境分析4.3.1 半导体行业资金来源4.3.2 大基金一期完成情况4.3.3 大基金一期投向企业4.3.4 大基金二期实行现状4.3.5 各省市资金扶持情况4.4 人才需求环境分析4.4.1 从业人员规模状况4.4.2 人才缺口情况分析4.4.3 产业人才结构特点4.4.4 集成电路学院成立4.4.5 人才发展的相关建议*五章 2020年到2023年中国光刻机行业发展综况5.1 中国光刻机行业发展综述5.1.1 行业发展背景5.1.2 行业发展历程5.1.3 行业发展现状5.1.4 产业上游分析5.1.5 产业下游分析5.2 中国光刻机行业运行状况5.2.1 行业驱动因素5.2.2 企业区域分布5.2.3 国内采购需求5.2.4 国产供给业态5.2.5 行业投情况5.2.6 企业动态5.3 2020年到2023年中国光刻机进出口数据分析5.3.1 进出口总量数据分析5.3.2 主要贸易国进出口情况分析5.3.3 主要省市进出口情况分析5.4 中国光刻机行业发展问题5.4.1 主要问题分析5.4.2 产业发展挑战5.4.3 行业发展痛点5.4.4 行业发展风险5.5 中国光刻机行业发展对策5.5.1 整体发展战略5.5.2 增加科研投入5.5.3 加快技术突破5.5.4 加强人才积累*六章 2020年到2023年光刻机产业链上游分析6.1 光刻核心组件重点行业发展分析6.1.1 双工作台6.1.2 光源系统6.1.3 物镜系统6.2 光刻配套设施重要行业发展分析6.2.1 光刻气体6.2.2 光掩膜版6.2.3 检测设备6.2.4 涂胶显影6.3 光刻核心组件重点企业解析6.3.1 双工作台：华卓精科6.3.2 浸没系统：启尔机电6.3.3 系统：国科精密6.3.4 光源系统：科益虹源6.3.5 物镜系统：国望光学6.4 光刻配套设施重点企业解析6.4.1 配套光刻气：华特气体、凯美特气6.4.2 光掩膜版：清溢光电、菲利华6.4.3 缺陷检测：东方晶源6.4.4 涂胶显影：芯源微*七章 2020年到2023年光刻机上游——光刻胶行业分析7.1 光刻胶行业发展综述7.1.1 光刻胶的定义7.1.2 光刻胶的分类7.1.3 光刻胶重要性7.1.4 技术发展趋势7.2 **光刻胶行业发展7.2.1 光刻胶产业链7.2.2 行业发展历程7.2.3 市场发展规模7.2.4 细分市场分析7.2.5 竞争格局分析7.3 中国光刻胶企业发展7.3.1 国产市场现状7.3.2 行业发展规模7.3.3 企业布局分析7.4 国产光刻胶重点企业运营情况7.4.1 彤程新材料集团股份有限公司7.4.2 江苏南大光电材料股份有限公司7.4.3 苏州晶瑞化学股份有限公司7.4.4 江苏雅克科技股份有限公司7.4.5 深圳市容大感光科技股份有限公司7.4.6 上海新阳半导体材料股份有限公司7.5 光刻胶行业投资壁垒分析7.5.1 技术壁垒7.5.2 客户认证壁垒7.5.3 设备壁垒7.5.4 原材料壁垒*八章 2020年到2023年光刻机产业链下游应用分析8.1 芯片领域8.1.1 芯片相关概念8.1.2 芯片制程工艺8.1.3 行业运营模式8.1.4 芯片产品分类8.1.5 产业销售规模8.1.6 市场结构分析8.1.7 产量规模走势8.2 芯片封装测试领域8.2.1 封装测试概念8.2.2 市场规模分析8.2.3 市场竞争格局8.2.4 国内企业8.2.5 封测技术发展8.2.6 行业发展趋势8.3 LED领域8.3.1 LED行业概念8.3.2 行业产业链条8.3.3 产业市场规模8.3.4 **竞争格局8.3.5 应用领域分析8.3.6 行业发展趋势*九章 2020年到2023年光刻机行业技术发展分析9.1 **光刻技术发展综述9.1.1 **技术演进阶段9.1.2 **技术发展瓶颈9.1.3 **技术发展方向9.2 中国光刻技术发展态势9.2.1 中国研发进展分析9.2.2 国内技术研发状况9.2.3 中国发展技术问题9.2.4 光刻技术研究方向9.3 光刻机技术专利申请分析9.3.1 专利申请规模9.3.2 专利申请类型9.3.3 主要技术分支9.3.4 主要申请人分布9.3.5 技术创新热点9.4 光刻机重点技术分析9.4.1 接触接近式光刻技术9.4.2 投影式光刻技术9.4.3 步进式光刻技术9.4.4 双工作台技术9.4.5 双重图案技术9.4.6 多重图案技术9.4.7 浸没式光刻机技术9.4.8 较紫外光刻技术9.5 “02专项”项目分析9.5.1 “02专项”项目概述9.5.2 “光刻机双工件台系统样机研发”项目9.5.3 “较紫外光刻关键技术研究”项目9.5.4 “**分辨光刻装备研制”项目*十章 2020年到2023年中国光刻机成员企业运营分析10.1 上海微电子装备（集团）股份有限公司10.1.1 企业发展概况10.1.2 产品业务分析10.1.3 经营情况分析10.1.4 企业竞争劣势10.1.5 企业股权结构10.1.6 技术研究分析10.2 合肥芯碁微电子装备股份有限公司10.2.1 企业发展概况10.2.2 技术研发分析10.2.3 经营效益分析10.2.4 业务经营分析10.2.5 财务状况分析10.2.6 核心竞争力分析10.2.7 产品研发进展10.2.8 未来前景展望10.3 无锡影速半导体科技有限公司10.3.1 企业发展概况10.3.2 企业股权结构10.3.3 产品结构分析10.3.4 技术研发分析10.4 北京半导体**设备研究所10.4.1 企业发展概况10.4.2 企业客户构成10.4.3 产品结构分析10.4.4 技术研发分析10.4.5 核心竞争力分析10.5 成都晶普科技有限公司10.5.1 企业发展概况10.5.2 业务经营分析10.5.3 技术研发分析10.5.4 核心竞争力分析*十一章 2023年到2029年中国光刻机市场前景分析11.1 光刻机行业发展前景11.1.1 **光刻机需求机遇分析11.1.2 **光刻机产品研发趋势11.1.3 中国光刻机行业前景展望11.1.4 中国光刻机技术发展机遇11.1.5 中国光刻机市场需求机遇11.2 “十四五”时期光刻机行业发展展望11.2.1 先进制程推进加快光刻机需求11.2.2 材料设备发展加速产业链完善11.2.3 地区发展规划提及光刻机行业11.3 2023年到2029年中国光刻机行业预测分析11.3.1 2023年到2029年中国光刻机行业影响因素分析11.3.2 2023年到2029年中国光刻机下游应用市场预测
图表目录图表1 光刻机结构图表2 光刻机组成部分及作用图表3 光刻机工作原理图表4 正性光刻和负性光刻图表5 光刻工艺流程图图表6 IC制造工序图表7 光刻机光源类型图表8 接触式分类图表9 投影式分类图表10 各个工艺节点和工艺及光刻机类型的关系图图表11 EUV光刻机发展规划路径图表12 接近接触式光刻分类图表13 光刻机分类图表14 光刻机产业链图表15 光刻机组成结构及特点图表16 光刻机上下游市场产业链及关键企业图表17 光刻机产品图表18 **光刻机市场除ASML、Canon、Nikon规模以上企业图表19 1980年代末美国光刻机“三成员”被收购或被迫转型图表20 阿斯麦光刻机主要供应商汇总一览表图表21 2015年到2021年**TOP3企业光刻机销量图表22 2019年到2021年**TOP3企业光刻机营业收入图表23 光刻机三大公司技术现状图表24 2021年光刻机**出货情况图表25 2021年**光刻机TOP3市场份额占比情况图表26 2014年到2021年**光刻机TOP3销量变动图表27 2020年光刻机**市场的产品结构（销量）图表28 2020年光刻机**市场的产品结构（金额）图表29 2015年到2020年光刻机各类产品销量图表30 2015年到2020年各类光刻机产品**销售额图表31 **大光刻机企业i年到line产品图表32 2017年到2020年i年到line光刻机销量图表33 **大光刻机企业KrF产品图表34 2017年到2020年KrF光刻机销量图表35 **大光刻机企业ArF产品图表36 2017年到2020年ArF光刻机销量图表37 **大光刻机企业ArFi产品图表38 2017年到2020年ArFi光刻机销量图表39 ASML EUV产品图表40 2017年到2020年EUV光刻机销量图表41 2011年到2020年EUV光刻机单价变动图表42 ASML产业链企业分布图表43 ASML主要上游供应商图表44 ASML获得投资情况图表45 2019年到2020财年阿斯麦公司综合收益表图表46 2019年到2020财年阿斯麦公司收入分地区资料图表47 2020年到2021财年阿斯麦公司综合收益表图表48 2020年到2021财年阿斯麦公司收入分地区资料图表49 2021年到2022财年阿斯麦公司综合收益表图表50 ASML光刻机升级历程图表51 ASML产品分类图表52 ASML高NA系统路线图图表53 Canon发展历程图表54 2019年到2020年公司综合收益表图表55 2019年到2020年公司分部资料图表56 2019年到2020年公司收入分地区资料图表57 2020年到2021年公司综合收益表图表58 2020年到2021年公司分部资料图表59 2020年到2021年公司收入分地区资料图表60 2021年到2022年公司综合收益表图表61 2021年到2022年公司分部资料图表62 2021年到2022年公司收入分地区资料图表63 Canon现有光刻机产品图表64 光刻工艺与纳米压印光刻对比图表65 尼康发展历程图表66 2020年到2021财年日本尼康综合收益表图表67 2020年到2021财年日本尼康分部资料图表68 2020年到2021财年日本尼康收入分地区资料图表69 2021年到2022财年日本尼康综合收益表图表70 2021年到2022财年日本尼康分部资料图表71 2021年到2022财年日本尼康收入分地区资料图表72 2022年到2023财年日本尼康综合收益表图表73 2022年到2023财年日本尼康分部资料图表74 NSR年到S635E性能参数图表75 NSR年到S622D性能参数图表76 NSR年到S622D性能参数图表77 NSR年到S622D性能参数图表78 NSR年到S622D性能参数图表79 尼康2016年到2020年研发支出情况图表80 尼康平板显示器的制造工艺以及FPD装置图表81 半导体产业历史上重要支持政策图表82 《国家集成电路产业发展推进纲要（2014）》规划目标图表83 集成电路政策规划目标变化历程图表84 集成电路产业政策扶持重点变化历程图表85 《新时期促进集成电路产业和软件产业高质量发展的若干政策》旧财税政策变化图表86 《新时期促进集成电路产业和软件产业高质量发展的若干政策》新增财税政策图表87 集成电路财税政策变化历程图表88 集成电路政策扶持企业变化历程图表89 光刻机产业历史上重要支持政策图表90 协议中针对军民两用产品和技术控制清单图表91 瓦森纳对中技术管控升级图表92 2017年到2021年中国R&D经费投入及其增长率变化图表93 美国对华科技图表94 2017年到2021年国内生产总值及其增长速度图表95 2017年到2021年三次产业增加值占国内生产总值比重图表96 2022年GDP初步核算数据图表97 2016年到2020年货物进出口总额图表98 2020年货物进出口总额及其增长速度图表99 2020年主要商品出口数量、金额及其增长速度图表100 2020年对主要国家和地区货物进出口金额、增长速度及其比重图表101 2017年到2021年货物进出口总额图表102 2021年货物进出口总额及其增长速度图表103 2021年主要商品出口数量、金额及其增长速度图表104 2021年主要商品进口数量、金额及其增长速度图表105 2021年对主要国家和地区货物进出口金额、增长速度及其比重图表106 2016年到2020年全部工业增加值及其增速图表107 2020年主要工业产品产量及其增长速度图表108 2017年到2021年全部工业增加值及其增长速度图表109 2021年主要工业产品产量及其增长速度图表110 2021年到2022年规模以上工业增加值同比增长速度图表111 行业资本来源图表112 大基金一期、二期政策对比图表113 大基金一期产业链的投资额占比图表114 大基金一期产业链的投资额图表115 大基金一期资金流向图表116 大基金二期投资流向图表117 大基金推动产业发展侧重点图表118 中国主要地方集成电路产业基金规模图表119 2020年我国直接从事集成电路产业人员规模图表120 2021年**高校成立的集成电路学院图表121 2021年**高校成立的集成电路学院（续）图表122 中国光刻机产业发展历程图表123 中国光刻机企业工艺节点进程图表124 国产光刻机上游产业链图表125 国产光刻产业链布局图表126 国产光刻产业链技术进展图表127 光刻机应用场景图表128 中国光刻机企业地区分布图表129 2020年到2021年光刻机采购情况图表130 光刻机企业性质图表131 2020年到2023年中国光刻机进出口总量图表132 2020年到2023年中国光刻机进出口总额图表133 2020年到2023年中国光刻机进出口（总量）结构图表134 2020年到2023年中国光刻机进出口（总额）结构图表135 2020年到2023年中国光刻机贸易逆差规模图表136 2020年到2021年中国光刻机进口区域分布图表137 2020年到2021年中国光刻机进口市场集中度（分国家）图表138 2021年主要贸易国光刻机进口市场情况图表139 2022年主要贸易国光刻机进口市场情况图表140 2020年到2021年中国光刻机出口区域分布图表141 2020年到2021年中国光刻机出口市场集中度（分国家）图表142 2021年主要贸易国光刻机出口市场情况图表143 2022年主要贸易国光刻机出口市场情况图表144 2020年到2021年主要省市光刻机进口市场集中度（分省市）图表145 2021年主要省市光刻机进口情况图表146 2022年主要省市光刻机进口情况图表147 2020年到2021年中国光刻机出口市场集中度（分省市）图表148 2021年主要省市光刻机出口情况图表149 2022年主要省市光刻机出口情况图表150 国内外半导体设备企业研发阶段图表151 2021年中国各类激光器市场占比图表152 2015年到2023年**光学镜头行业市场规模、增速及预测图表153 2017年到2021年中国光学镜头行业市场规模图表154 光刻气体种类图表155 2020年到2021年**电子气体市场规模图表156 2021年到2025年中国集成电路用电子特气市场规模图表157 国产电子特气供应商产品突破图表158 国产电子特气供应商募资扩产计划图表159 国产电子特气供应商现有产能及预计新增产能情况图表160 光掩膜版行业内主要企业图表161 掩膜版行业格局图表162 **各大厂商可供应的高端产品情况图表163 国内掩模版市场格局图表164 半导体检测设备分类及检测属性图表165 2017年到2021年中国半导体测试设备市场规模情况图表166 涂胶显影设备InLine是未来趋势图表167 华卓精科主营业务&产品图表168 硅片台双台交换系统参数性能图表169 启尔电机浸没式系统研究总体方案图表170 EpolithA075型参数图表171 科益虹源股权结构图图表172 科益虹源企业发展历程图表173 国望光学股权图图表174 2021年华特气体业务构成图表175 华特气体主要气体产品图表176 凯美特气主要产品及应用图表177 2021年凯美特气收入结构图表178 2022H1凯美特气各项业务毛利率图表179 清溢光电公司掩膜板产品类图表180 2021年清溢光电主营业务收入结构图表181 清溢光电公司半导体产品及客户情况图表182 菲利华光掩膜版客户端链条图表183 SEpAI新型CD年到SEM/EDS图表184 芯源微公司发展历程图表185 芯源微公司主营产品包含光刻工序涂胶显影设备&单片式湿法设备两大类图表186 光刻胶按显示效果分类图表187 光刻胶应用制程及分类图表188 光刻胶的主要技术参数图表189 光的特性限制了光刻的极限分辨率图表190 光刻胶成分及作用图表191 光刻胶下游对应产品类型图表192 光刻胶上下游产业链图表193 光刻胶的发展历程图表194 2010年到2020年**光刻胶市场规模图表195 2020年**半导体光刻胶细分市场结构图表196 光刻胶主要生产企业图表197 **主要光刻胶企业量产与研发节点图表198 2020年中国光刻胶国产化率状况图表199 2015年到2020年中国光刻胶市场规模及同比增速图表200 国内企业逐步突破高端光刻胶图表201 国内光刻胶新增产能建设图表202 容大感光光刻胶产品图表203 **光刻胶技术来源国分布图表204 各类制程主要芯片及下游应用图表205 主要晶圆代工厂不同进程芯片量产时间图表206 芯片按功能划分图表207 2016年到2021年中国集成电路产业销售规模及增速图表208 2011年到2021年中国集成电路产量及增速图表209 2016年到2021年中国集成电路子行业市场规模变化图表210 2016年到2021年中国集成电路子占比统计图表211 2021年到2022年中国集成电路月度产量及增长情况图表212 2021年到2022年中国集成电路累计产量及增长情况图表213 2015年到2021年我国封装测试行业销售额情况图表214 2022年**前**半导体封测（OSAT）企业图表215 半导体封测领域TOP10企业**量排行榜图表216 四阶段封装技术发展图表217 先进封装朝两个方向发展发展方向图表218 小间距LED、MiniLED、MicroLED对比图表219 2017年到2022年中国LED市场规模及预测图表220 **LED行业市场区域竞争格局图表221 中国LED应用领域分布情况图表222 光谱图表223 中国光刻机现有产品图表224 中国光刻技术面临的困难与挑战图表225 2015年到2022年光刻机领域专利申请及授权图表226 光刻机领域专利申请的类型图表227 光刻机技术主要集中的技术分支图表228 光刻机技术**数量排名图表229 2003年到2022年光刻机技术**集中度图表230 2018年到2022年光刻机技术专利申请的新进入者图表231 光刻机技术专利申请的热点图表232 光刻机技术专利申请旭日图图表233 早期接触接近式光刻技术图表234 步进式投影示意图图表235 普通光刻技术（正性光刻）图表236 双重图案技术图表237 双重图案技术中的自对准间隔技术图表238 自对准间隔技术的四重图案化图表239 45nm制程下一代光刻技术两种发展轨迹图表240 浸没式光刻机与传统光刻技术对比图表241 EUV与ArFi工艺对比图表242 EUV技术难点与解决措施图表243 “02专项”目标图表244 “02专项”部分参与单位图表245 *五代光刻机光源图表246 EUV研发的五大难题问题类型图表247 **分辨光刻机研制的意义图表248 上海微电子发展历程图表249 SMEE主营产品分类图表250 600系列光刻机分类图表251 500系列光刻机分类图表252 300系列光刻机分类图表253 200系列光刻机分类图表254 上海微电子IC前道光刻工艺与国际水平差距明显图表255 SMEE股权结构图表256 2010年到2022年上微电专利申请情况图表257 芯碁微装泛半导体设备产品图表258 2015年到2022年芯碁微装专利申请情况图表259 芯碁微装**类型分布图表260 2022年芯碁微装**公开情况图表261 2022年芯碁微装在研光刻设备相关项目情况图表262 芯碁微装研发人员情况图表263 2019年到2022年合肥芯碁微电子装备股份有限公司总资产及净资产规模图表264 2019年到2022年合肥芯碁微电子装备股份有限公司营业收入及增速图表265 2019年到2022年合肥芯碁微电子装备股份有限公司净利润及增速图表266 2021年合肥芯碁微电子装备股份有限公司主营业务分行业、产品、地区、销售模式图表267 2021年到2022年合肥芯碁微电子装备股份有限公司营业收入情况图表268 2019年到2022年合肥芯碁微电子装备股份有限公司营业利润及营业利润率图表269 2019年到2022年合肥芯碁微电子装备股份有限公司净资产收益率图表270 2019年到2022年合肥芯碁微电子装备股份有限公司短期偿债能力指标图表271 2019年到2022年合肥芯碁微电子装备股份有限公司资产负债率水平图表272 2019年到2022年合肥芯碁微电子装备股份有限公司运营能力指标图表273 江苏影速集成电路装备股份有限公司股权结构图表274 影速光刻机产品种类与性能图表275 LP3000/8000技术参数表图表276 Q7500D/DiAuto7技术参数表图表277 SM300/SM100技术参数表图表278 R2R800技术参数表图表279 IC250/IC150技术参数表图表280 2020年到2023年无锡影速公开**技术情况图表281 2016年到2022年无锡影速专利申请情况图表282 北京半导体**设备研究所关系图谱图表283 北京半导体**设备研究所不同产品参数图表284 BG年到401A双面机主要技术特点图表285 BG年到406双面机主要技术特点图表286 SB年到402双面机主要技术特点图表287 2017年到2022年中科院四十五所专利申请情况图表288 晶普科技光刻机产品图表289 2017年到2022年中国光电技术研究所专利申请情况图表290 2018年到2026年**主要半导体晶圆代工厂资本开支及预测图表291 国内晶圆制造厂商积极扩产图表292 2023年到2029年中国集成电路累计产量预测http://hyzsyjy.cn.b2b168.com
